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棱鏡耦合測試儀的特性及應用領域介紹
更新更新時間：2021-12-15 點擊次數(shù)：1243
棱鏡耦合測試儀主要是用于電解質和聚合物膜的厚度、折射率和波導參數(shù)的快速測量。適用于薄膜厚度在2-100µm的聚合物材料、硅基氧化膜、硅基玻璃膜，在干涉條紋產(chǎn)生的基礎上通過改變角度產(chǎn)生干涉條紋（VAMFO-變角度單色條紋觀測）的方法。
對于厚膜折射率的測量，單色光被直接照射到被測樣品上，這樣，從薄膜表面反射回來的光的干涉小值就會發(fā)生變化，光的入射角也會發(fā)生變化。在這種技術中，薄膜厚度是由兩個干涉小值的角的位置計算出來的。對于這種測量條件——薄膜具有兩個或兩個以上的干擾小值——薄膜厚度必須大于低脫粒率，通常為2微米。樣品夾持機采用真空從背面支撐樣品，安裝方便簡單?？蓽y量薄膜/基底的類型，硅襯底上幾乎任何透明或半透明材料的氧化物、氮化物、介質、聚合物或薄膜。可測量的薄膜/襯底類型：氧化物、氮化物、介電材料、聚合物、或硅襯底上幾乎任何透明或半透明材料的薄膜。
一、棱鏡耦合測試儀的特性：
1、薄膜及波導折射率/厚度測量，包括梯度折射率的測量；
2、體材料折射率的測量；
3、薄膜及體材料的雙折射測量；
4、移動光纖測試波導損耗；
5、雙層薄膜測量（甚至在波長1310nm或1550nm處有幾個~?厚度）；
6、不相關的薄膜/基板組合；
7、無需預先知識，操作簡單；
8、批量或基板材料的準確測量；
二、主要應用領域：
1、光波導器件；
2、激光晶體材料；
3、聚合物材料；
4、顯示技術材料；
5、光/磁存儲材料；
6、光學薄膜。
